国产EUV光源系统样机发布，预计3至5年内量产

2026-10-15

黄仁勋判断中国2030年前可做出先进光刻系统，蔡司半导体负责人称国产EUV光刻机或需15年

2026-09-18

ASML拟2028年产逾110台EUV光刻机：AI需求“非常非常强”，2027年产能已近售罄

2026-09-15

台积电、三星将导入ASML High-NA EUV，光掩模尺寸拟从6英寸升级至12英寸

2026-09-09

英特尔高数值孔径EUV晶圆处理量突破百万片 先进制程量产能力再获验证

2026-09-09

英特尔High-NA EUV晶圆处理量突破100万片，超业界其他厂商总和

2026-09-08

蔡司：中国EUV光刻机落后15年

2026-09-04

全球已有10台High-NA EUV光刻机投入使用

2026-09-03

EUV量检测！国产半导体设备的新赛道

2026-08-31

High-NA EUV之争：英特尔与台积电走向两种先进制程路线

2026-08-11