台积电、三星将导入ASML High-NA EUV，光掩模尺寸拟从6英寸升级至12英寸

2026-09-09

英特尔High-NA EUV晶圆处理量突破100万片，超业界其他厂商总和

2026-09-08

全球已有10台High-NA EUV光刻机投入使用

2026-09-03

High-NA EUV之争：英特尔与台积电走向两种先进制程路线

2026-08-11

英特尔率先量产High-NA EUV芯片，加速晶圆代工业务突围

2026-07-17

Imec宣布：成功打造全球首款基于High-NA EUV的量子点量子比特器件

2026-05-26

台积电公布最新路线图：A12、A13、N2U工艺技术发布，2029年之前不使用High-NA EUV

2026-04-23

ASML新一代High-NA EUV光刻机达量产标准，单台造价4亿美元

2026-02-27

英特尔：ASML首批两台High-NAEUV设备已投产

2025-02-27

ASML和IMEC合力推进high-NA EUV光刻技术试验线

2023-07-03